小王子分享ALD設備原理

更新時間：2024-08-30

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小王子分享ALD設備原理

ALD設備配備有不銹鋼或鋁制成的真空室，由原料氣體供給部分、排出原料氣體的排氣部分以及控制過程的控制單元組成。

充當前體的有機金屬材料稱為前體。首先，將前體引入真空室并吸附到基板的表面上。之后，將室抽真空一次以去除多余的前驅體，然后氧化和氮化以形成薄膜。

一個原子層在一個循環中形成，并且可以通過多次重復該循環來沉積薄膜。由于膜厚根據循環次數而變化，因此具有膜厚控制性高的特點。吹掃工藝在ALD成膜過程中也非常重要，因為腔室中殘留的不同前驅體和氧化源會對薄膜質量產生負面影響。

為了提高沉積效率，可以加熱基底或等離子體輔助基底。加熱法稱為熱ALD，等離子體輔助法稱為等離子體ALD。

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